歷任所長

鄒世昌

  

  

 

  

  

  

  

   

  中國科學院院士,材料學家。19317月出生,江蘇太倉人。1952年畢業于唐山交通大學冶金工程系,1954年赴蘇留學,1958年在前蘇聯莫斯科有色金屬學院獲副博士學位。回國后一直在上海冶金所(現上海微系統所)工作,歷任離子束開放實驗室主任、所長。先后擔任離子注入和材料改性兩個國際學術會議的國際委員會委員。曾受聘為德國慕尼黑弗朗霍夫學會固體技術研究所客座教授。1986年當選為中共上海市第五屆委員會候補委員。1991年當選為中國科學院學部委員(院士)。1992年當選為中共第十四屆中央委員會候補委員。現任上海微系統所研究員,博士生導師,并任上海市集成電路行業協會會長、上海華虹 NEC電子有限公司副董事長。

  鄒世昌在六十年代曾負責國防重點任務甲種分離膜(代號真空閥門)的加工成形工作,是成功研制甲種分離膜的第二發明人。七十年代以后在離子束材料改性、合成、加工和分析等方面進行了系統的研究工作,獨創了用二氧化碳激光背面輻照獲得離子注入損傷的增強退火效應,用全離子注入技術研制成我國第一塊120門砷化鎵門陣列電路,用反應離子束加工成我國第一批閃光全息光柵,研究SOI材料并制成CMOS/SOI電路,發展了離子束增強沉積技術并合成了氮化硅、氮化鈦薄膜。

  鄒世昌獲國家發明一等獎和中國科學院自然科學、科技進步等14項獎勵,發表文章200多篇,培養博士生30多名,2003年被評為上海浦東開發建設杰出人才,2008年被國際半導體設備材料協會SEMI授予中國半導體產業開拓獎。